光刻胶作为半导体制造中的关键材料，其性能直接影响芯片的精度和良率。
晶圆级烤箱在光刻工艺中扮演着重要角色：
主要原因包括：
首先，晶圆级烤箱能够提供均匀且精确的温度控制，确保光刻胶在烘烤过程中受热均匀，避免因温度不均导致的胶膜厚度差异或应力集中。
其次，晶圆级烤箱的高温稳定性有助于光刻胶中的溶剂充分挥发，减少残留，从而提高光刻图形的清晰度和分辨率。
此外，晶圆级烤箱还能有效控制烘烤时间，避免过度烘烤或烘烤不足，确保光刻胶的化学性质稳定，进而提升芯片的可靠性和性能。
最后，晶圆级烤箱的自动化程度高，能够与生产线无缝衔接，提高生产效率并降低人为操作误差。因此，晶圆级烤箱是光刻胶工艺中不可或缺的设备，对半导体制造的质量和效率至关重要。
